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1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemtc-m16.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador6qtX3pFwXQZ3r59YDa/Kea9d
Repositóriosid.inpe.br/iris@1916/2006/02.20.14.13   (acesso restrito)
Última Atualização2006:02.20.14.13.00 (UTC) administrator
Repositório de Metadadossid.inpe.br/iris@1916/2006/02.20.14.13.44
Última Atualização dos Metadados2018:06.05.01.28.33 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE-13543-PRE/8756
ISSN0004-640X
Chave de CitaçãoSpassovBarrUedaGuer:1998:CoHiPu
TítuloA compact high-voltage pulse generator for plasma applications
ProjetoImplantação Iônica por Imersão em Plasma (IIIP)
Ano1998
Data de Acesso17 maio 2024
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho152 KiB
2. Contextualização
Autor1 Spassov, V. A.
2 Barroso, Joaquim José
3 Ueda, Mário
4 Guerguiev, L.
Identificador de Curriculo1
2
3 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB
Grupo1
2 LAP-INPE-MCT-BR
3 LAP-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Sofia University. Faculty of Physics
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais. Laboratório Associado de Plasmas, (INPE. LAP)
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasmas, (INPE. LAP)
4 Wayne State University
RevistaAstrophysics and Space Science
Volume256
Número1-2
Páginas533-538
Histórico (UTC)2006-02-20 14:13:45 :: vinicius -> administrator ::
2007-04-25 13:22:13 :: administrator -> vinicius ::
2008-01-14 11:18:07 :: vinicius -> administrator ::
2018-06-05 01:28:33 :: administrator -> marciana :: 1998
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Palavras-ChavePLASMA
Pulses
High voltages
Gyrotron
Plasma imersion ion implantation
PLASMA
Pulso
Alta voltagem
Girotron
Implantação iônica por imersão de plasma
ResumoThe design and construction of a compact high-voltage pulse generator for providing input electron beam power for the LAP/INPE 32 GHz gyrotron and for treatment of metal and polymer materials by plasma immersion ion implantation (PIII) are described. The generator was built on a circuit category of Pulse Forming Network (PFN), consisting of nine LC sections with L = 270 H and C = 2 5 nF. The instrument was designed to produce a flat 30 kV, several Amps pulse in 15 s pulse length with pulse repetition frequency (PRF) of 8 to 100 Hz. By means of a resonant charging inductance it is possible to gain an output voltage with a factor of 1.8 higher than the voltage supplied by the pulse generator. The generator is fed with sine-wave, constant current source, and a 60 kV, 15 mA switching power supply..
ÁreaFISPLASMA
Arranjourlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > A compact high-voltage...
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4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvo36.pdf
Grupo de Usuáriosadministrator
vinicius
Visibilidadeshown
Detentor da CópiaSID/SCD
Política de Arquivamentodenypublisher denyfinaldraft12
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoPORTALCAPES
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/banon/2003/08.15.17.40
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository month nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress readergroup rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype
7. Controle da descrição
e-Mail (login)marciana
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